フォトマスクの転写でなく、電子ビームでウエハ上に直接パターンを描画する方法は、集積回路の多品種少量生産や開発に適している。これは設計データから直接に試作品や製品を作る「ディジタルファブリケーション」と呼ばれる技術である。しかし集積回路の微細化・高密度化の進歩により、今では直径300mmのSiウエハ上に1兆(1012)個ほどのトランジスタが形成されており、このように膨大な数の描画を行う必要がある。我々は多数の電子ビームを集積回路で制御するアクティブマトリックス超並列電子ビームでこれを可能にすべく、そのプロトタイプを実現する研究を10年以上進めてきた。1万本の電子源を開発し、これを用いた超並列電子ビーム描画(Massive Parallel Electron Beam Write (MPEBW))装置を設計・試作し、そのプロトタイプによる実証実験を行った。本書はその成果をまとめたもので、将来の実用化につながることを期待する。